جهانبان- شرکت هلندی ASML و شریک آلمانی آن، کارل زایس (Carl Zeiss)، از پیشرفت در توسعهٔ فناوری تازه‌ای برای ساخت تراشه‌های پیشرفته خبر داده‌اند؛ فناوری‌ای که می‌تواند در آینده به تولید پردازنده‌های سریع‌تر و کم‌مصرف‌تر کمک کند.
بر اساس گزارشی که رویترز روز پنج‌شنبه، ۸ اکتوبر ۲۰۲۶ منتشر کرد، مهندسان این دو شرکت در یک مقالهٔ علمی اعلام کرده‌اند که نسل آیندهٔ تجهیزات لیتوگرافی، موسوم به Hyper NA، ممکن است طی حدود ده سال آینده آمادهٔ استفاده شود.
ساخت مدارهایی در ابعاد پنج نانومتر
این فناوری قرار است امکان چاپ جزئیات مدارهای الکترونیکی تا اندازهٔ حدود پنج نانومتر را فراهم کند؛ ابعادی که بیش از یک‌سوم کوچک‌تر از قابلیت تجهیزات پیشرفتهٔ کنونی ASML است.
کوچک‌تر شدن ساختار مدارها می‌تواند به افزایش سرعت پردازش و کاهش مصرف انرژی در نسل‌های آیندهٔ تراشه‌ها کمک کند؛ موضوعی که برای توسعهٔ هوش مصنوعی و مراکز داده اهمیت زیادی دارد.
استفاده از فناوری‌های موجود
یکی از ویژگی‌های مهم طرح Hyper NA این است که بخش بزرگی از فناوری‌های موجود، از جمله منبع نور تجهیزات کنونی، ممکن است در آن دوباره استفاده شود.
به گفتهٔ پژوهشگران، شرکت زایس هم‌اکنون توانایی ساخت آینه‌های فوق‌دقیق مورد نیاز این دستگاه را دارد.
با این حال، ASML هنوز تصمیم قطعی برای تولید تجاری این نسل از تجهیزات نگرفته است و چالش‌های فنی همچنان باقی‌اند.
رقابت برای آیندهٔ پردازنده‌ها
در شرایطی که تقاضا برای تراشه‌های هوش مصنوعی رو به افزایش است، توسعهٔ فناوری‌های جدید ساخت نیمه‌رساناها می‌تواند نقش مهمی در آیندهٔ صنعت کمپیوتر داشته باشد.
با وجود این، Hyper NA هنوز یک فناوری در حال توسعه است و نباید آن را محصولی آماده برای استفادهٔ تجاری دانست.
